本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體一氧化氮的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存及安全要求

本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)用氣體一氧化氮

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體一氧化氮的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存及安全要求。本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)用氣體一氧化氮。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體氨的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存及安全要求本標(biāo)準(zhǔn)適用于以工業(yè)氨為原料，采用吸附、精餾方法提純制得的電子工業(yè)用氣體氨分子式：NH3相對(duì)分子質(zhì)量：17.031（按2005年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體氨的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存及安全要求

本標(biāo)準(zhǔn)適用于以工業(yè)氨為原料，采用吸附、精餾方法提純制得的電子工業(yè)用氣體氨

分子式：NH3

相對(duì)分子質(zhì)量：17.031（按2005年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體一氧化氮的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存及安全要求本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)用氣體一氧化氮本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體一氧化氮的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及產(chǎn)品的包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存及安全要求

本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)用氣體一氧化氮

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)用氣體 一氧化碳》由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口上報(bào)，主管部門(mén)為工業(yè)和信息化部。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了一氧化碳的技術(shù)要求,試驗(yàn)方法以及包裝、標(biāo)志、貯運(yùn)及安全。本標(biāo)準(zhǔn)適用于甲酸脫水、甲酸甲酯選擇分解、木炭還原二氧化碳、甲醇裂解或使用天然氣、輕油、重質(zhì)液態(tài)烴、焦炭、煤等含碳物質(zhì)為原料經(jīng)過(guò)氧化、蒸汽轉(zhuǎn)化或二氧化碳還原等不同工藝過(guò)程獲得并經(jīng)精制得到的一氧化碳產(chǎn)品。它在多晶態(tài)鉆石膜生產(chǎn)中,為化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝過(guò)程提供碳源。分子式:CO相對(duì)分子質(zhì)量:28.0101(按2007年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量計(jì)算)

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)用氣體 硅烷(SiH4)》由TC203（全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)）歸口，主管部門(mén)為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)。

u3000u3000本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅烷氣體的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法以及包裝、標(biāo)志、貯運(yùn)及安全。。 u3000u3000本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)中多晶硅和單晶硅外延淀積、二氧化硅的低溫化學(xué)汽相淀積、非晶硅薄膜淀積等。

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)用氣體 氯化氫》由TC203（全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)）歸口，主管部門(mén)為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了氯化氫的技術(shù)要求、檢驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存和安全要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于以氫、氯為原料合成的氯化氫和以工業(yè)氯化氫為原料經(jīng)凈化制得的瓶裝液態(tài)氯化氫。 氯化氫主要用于電子工業(yè)，在集成電路生產(chǎn)中用于蝕刻、鈍化、外延等工藝。也可用于金屬冶煉、光導(dǎo)通訊和科學(xué)研究等領(lǐng)域。 分子式：HC1 相對(duì)分子質(zhì)量：36.461（按1989年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體--瓶裝氧化亞氮的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、驗(yàn)收規(guī)則及包裝、標(biāo)志、貯存與運(yùn)輸要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于硝酸銨熱分解工藝制取的氧化亞氮。該產(chǎn)品主要用于電子工業(yè)中二氧化硅的化學(xué)氣相淀積、等離子工藝。 分子式：N2O 相對(duì)分子質(zhì)量：44.01（按1989年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)用氣體 5N氯化氫》由TC203（全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)）歸口，主管部門(mén)為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體5N氯化氫的技術(shù)要求、檢驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、儲(chǔ)存、充裝、分裝和安全要求。本標(biāo)準(zhǔn)適用于以工業(yè)氯化氫為原料經(jīng)凈化制得的瓶裝液化氯化氫。氯化氫主要用于微電子工業(yè)半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中單晶硅片氣相拋光、外延和基座腐蝕工藝。也可用于硬質(zhì)合金和玻璃表面處理、醫(yī)藥中間體和精細(xì)化學(xué)品制造、科學(xué)研究等領(lǐng)域。分子式:HCl相對(duì)分子質(zhì)量:36.46l(按2005年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量)

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)用氣體 高純氯》由TC203（全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)）歸口，主管部門(mén)為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體高純氯產(chǎn)品的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則1,11t乏包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸及貯存和安全要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于以工業(yè)液氯為原料，采用物理吸附等過(guò)程生產(chǎn)的高純氯產(chǎn)品。該產(chǎn)品主要用于大規(guī)模集成電路、光導(dǎo)纖維、高溫超導(dǎo)、鋁加工等高新技術(shù)領(lǐng)域。 分子式：Cl2。 相對(duì)分子質(zhì)量：70．906(按1999年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量)。 101．3 kPa下的沸點(diǎn)：一34．O5℃。 101．3 kPa下的熔點(diǎn)：一l01．0。C。 101．3 kPa及20℃下氣體的密度：2．980 k9／m3。

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)用氣體 六氟化硫》由TC203（全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)）歸口，主管部門(mén)為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氣體六氟化硫產(chǎn)品的技術(shù)要求、分析方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存和安全要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于硫與氟反應(yīng)生成并經(jīng)精制和純化制備的高純度六氟化硫。該產(chǎn)品主要用作等離子蝕刻劑、摻雜劑、電子元器件的外延氣或稀釋載氣等。

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子工業(yè)用氣體 三氯化硼》由TC203（全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)）歸口，主管部門(mén)為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用三氯化硼氣體的要求、檢驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸、貯存和安全要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于以粗制三氯化硼為為原料，采用吸附、蒸餾的方法提純制得的三氯化硼，主要用于電子工業(yè)硅半導(dǎo)體器件和集成電路生產(chǎn)所用的擴(kuò)散、離子注入、干法蝕刻等工藝。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用液態(tài)和氣態(tài)氮的技術(shù)要求、檢驗(yàn)方法以及包裝、標(biāo)志等，適用于從分離空氣或氨還原法制得的氮，在超大規(guī)模集成電路制造中用作凈化、覆蓋、保護(hù)、加壓，也用于化學(xué)氣相淀積時(shí)的載氣等。 氮?dú)饣瘜W(xué)性質(zhì)不活潑，不可燃，是一種窒息性氣體。 分子式：N。 相對(duì)分子質(zhì)量：28.0134（按1991年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氬的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法和包裝、標(biāo)志。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于以深冷法從空氣、合成氨尾氣中提取的液態(tài)氬和氣態(tài)氬。電子工業(yè)用氬氣用于系統(tǒng)的吹掃、保護(hù)和增壓，它還可用于化學(xué)氣相淀積、濺射，等離子及活性離子 刻蝕劑和退火等不同工藝中。 分子式：Ar 相對(duì)分子質(zhì)量：39.948（按1991年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氦氣的技術(shù)要求、檢驗(yàn)方法以及包裝、標(biāo)志等，適用于以深冷法從天然氣、空氣或工廠弛放氣提取的高純度氦，在半導(dǎo)體及其器件生產(chǎn)中用作清洗氣、加壓氣，也用作載氣和保護(hù)氣等。 分子式：He 相對(duì)分子質(zhì)量：4.003（按1991年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氫的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法和包裝、標(biāo)志、安全等。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于以工業(yè)氫為原料經(jīng)純化制取的鋼瓶裝氫氣。氫主要被用來(lái)提供還原氣氛，作為外延工藝的載氣以及等離子體蝕刻劑的配氣原料。 分子式：H 相對(duì)分子質(zhì)量：2.016（按1991年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量）